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DIC 2026展商丨先普科技，氣體微污染控制解決方案供應(yīng)商
來(lái)源：世展網(wǎng)
分類(lèi)：顯示行業(yè)資訊
2026-06-25 12:03
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上海先普科技股份有限公司展位號(hào)：N4-A15先普于2004年在上海成立，是一家專(zhuān)業(yè)為半導(dǎo)體行業(yè)提供氣體微污染控制解決方案的供應(yīng)商。公司所生產(chǎn)的大宗氣體(N, H, O, Ar, He, CDA)純化設(shè)備，已持續(xù)不斷地向12寸、8寸半導(dǎo)體芯片廠和化合物半導(dǎo)體廠交付和投用。先普的XCDA和CO純化器，已成功應(yīng)用于若干12寸線先進(jìn)制程的光刻工藝。先普的POU純化器和過(guò)濾器，已廣泛應(yīng)用和配套于眾多半導(dǎo)體芯片廠的工藝設(shè)備，如外延，CVD, MOCVD等。
推薦產(chǎn)品
01先普POU氣體純化器該產(chǎn)品擁有9NP系列 / P9系列 / 7NP系列先普POU高性能氣體純化器采用的是常溫催化劑技術(shù)，通過(guò)化學(xué)反應(yīng)和物理吸附相結(jié)合的方法在常溫下將工藝氣體(進(jìn)氣純度5N)中的HO, O, CO, CO, H, NMHC等雜質(zhì)去除到1ppb以下(7NP系列為5ppb以下)，并且在內(nèi)表面電化學(xué)拋光的316L不銹鋼罐體中內(nèi)置了過(guò)濾精度為0.003微米的顆粒過(guò)濾器。產(chǎn)品應(yīng)用：先普的大宗氣體（N, H, O, Ar, He, CDA）氣體純化設(shè)備，已持續(xù)不斷地向12寸、8寸半導(dǎo)體芯片工廠和化合物半導(dǎo)體工廠交付和投用。先普的XCDA和CO純化設(shè)備，已成功應(yīng)用于若干12寸線先進(jìn)制程的大型半導(dǎo)體芯片制造工廠的光刻工藝。先普的POU純化器，已廣泛應(yīng)用和配套于眾多半導(dǎo)體芯片工廠的工藝設(shè)備，如EPI, CVD, MOCVD等。
02先普氣體過(guò)濾器該產(chǎn)品擁有PFAT / PFPT / PFSS / IGS / PK / DF系列先普以多年來(lái)為客戶提供氣體純化與過(guò)濾解決方案的經(jīng)驗(yàn)，應(yīng)國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)國(guó)產(chǎn)化需求，推出0.0015微米高精度氣體過(guò)濾器，覆蓋流量范圍從30slm到10000Nm3/h。產(chǎn)品應(yīng)用：先普的過(guò)濾器，已大量配套于半導(dǎo)體芯片工廠大宗氣站及眾多半導(dǎo)體工藝設(shè)備、氣柜、VMB等。
03先普氣體純化設(shè)備該產(chǎn)品擁有7NS系列 / 7NG系列 / 7NK系列 / 9NS系列 / 9NG系列采用化學(xué)反應(yīng)與物理吸附相結(jié)合的方法，在常溫下將工藝氣體中的HO, O, CO, CO, H, NMHC等雜質(zhì)去除到1ppb以下(7NS系列 / 7NG系列 / 7NK系列為5ppb以下)，配置過(guò)濾精度為0.003微米的顆粒過(guò)濾器，流量最大可達(dá)20000Nm3/h。
04先普Simlytic二元?dú)怏w濃度分析儀采用先進(jìn)的傳感技術(shù)和精密電子控制分析電路，可精確分析出二元混合氣體的混合比例。分析儀采用智能化設(shè)計(jì)，配備直觀易用的界面和先進(jìn)的數(shù)據(jù)處理功能，可輕松設(shè)置監(jiān)測(cè)參數(shù)、獲取詳細(xì)的歷史數(shù)據(jù)并實(shí)時(shí)掌握氣體濃度狀況。先普二元?dú)怏w濃度分析儀經(jīng)過(guò)嚴(yán)格的質(zhì)量控制和樣氣標(biāo)定，性能穩(wěn)定可靠，適用于各種二元混合氣體的濃度測(cè)量?？蓮V泛地應(yīng)用于氣體混合裝置，氣體回收裝置，變壓吸附裝置，載氣摻雜等裝置，及各種半導(dǎo)體工藝設(shè)備中。產(chǎn)品應(yīng)用：先普的二元?dú)怏w濃度儀，應(yīng)用于半導(dǎo)體工藝設(shè)備，如EPI, MOCVD等工藝設(shè)備，已獲得國(guó)內(nèi)頭部設(shè)備廠商的驗(yàn)證以及批量訂單。
DIC 2026
由中國(guó)光學(xué)光電子行業(yè)協(xié)會(huì)液晶分會(huì)（CODA）主辦的全球顯示技術(shù)年度盛會(huì)--DIC 2026系列會(huì)展活動(dòng)將再度登陸上海。其中，DIC FORUM 2026中國(guó)（上海）國(guó)際顯示產(chǎn)業(yè)高峰論壇將于8月26-27日在上海浦東嘉里大酒店隆重開(kāi)幕，DIC EXPO 2026國(guó)際（上海）顯示技術(shù)及應(yīng)用創(chuàng)新展將于8月26-28日在上海新國(guó)際博覽中心舉辦。
“多元賦能 全面升維”，DIC 2026將繼續(xù)推動(dòng)我國(guó)顯示產(chǎn)業(yè)不斷升級(jí)發(fā)展，促進(jìn)我國(guó)顯示產(chǎn)業(yè)從規(guī)模領(lǐng)先向價(jià)值領(lǐng)先轉(zhuǎn)變，為全球顯示產(chǎn)業(yè)提供技術(shù)升級(jí)、綠色轉(zhuǎn)型的中國(guó)方案，共同構(gòu)建開(kāi)放、包容、共贏的全球顯示產(chǎn)業(yè)生態(tài)。
DIC 2026精選參展商
DIC 2026同期會(huì)議一覽
參展及贊助請(qǐng)聯(lián)系
袁帥 先生
手機(jī)：
郵件：klaus.
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