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DIC 2026展商丨武漢國創(chuàng)科,新型顯示噴印制造裝備專家

來源:世展網(wǎng) 分類:顯示行業(yè)資訊 2026-05-26 12:03 閱讀:1774
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2026年上海國際顯示技術(shù)及應(yīng)用創(chuàng)新展DIC EXPO

2026-09-28-09-30

距離108
公司簡介

武漢國創(chuàng)科光電裝備有限公司(展位號:N4-A116)總部坐落于武漢 · 光谷,子公司廣東國創(chuàng)科在佛山南海區(qū)。面向國家高端裝備發(fā)展戰(zhàn)略與市場需求,國創(chuàng)科聚焦新型顯示噴印制造關(guān)鍵共性技術(shù)、核心裝備,開發(fā)大面積、高精度、高效率OLED、QLED、Micro-LED、E-paper等相關(guān)顯示器件噴印制造成套創(chuàng)新工藝、技術(shù)與裝備,以實現(xiàn)自主可控的新型顯示制造關(guān)鍵裝備的開發(fā)、市場化應(yīng)用,致力于打造“新型顯示高端裝備國產(chǎn)化標桿企業(yè)”。

推薦產(chǎn)品

01國創(chuàng)科膜層系列噴印裝備國創(chuàng)科膜層系列噴印裝備是國創(chuàng)科針對高質(zhì)量柔性膜層工藝制程而開發(fā)的系列裝備。該系列包括:PTE、PTO、PTBM、PTH以及ES這5條產(chǎn)品線。其中PTE產(chǎn)品線可應(yīng)用于TFE封裝以及MLP光效提取工藝制程;PTO產(chǎn)品線應(yīng)用于OCR以及光學粘結(jié)層工藝制程;PTBM產(chǎn)品線用于模組邊框涂布制程;PTH產(chǎn)品線應(yīng)用于AA Hole填孔工藝制程;ES產(chǎn)品線應(yīng)用于高粘度/超薄膜層結(jié)構(gòu)制備,如AR/VR光機模組,光刻膠涂布。膜層系列噴印裝備可滿足不同的制程尺寸,其高度的客制化在滿足不同應(yīng)用的場景需求外,同時也提供一套了從小試研發(fā)到中試再到量產(chǎn)的完整解決方案。

02國創(chuàng)科VCD裝備全尺寸高真空VCD工藝,直接影響印刷OLED/QLED的膜厚均一性、發(fā)光效率壽命等,是印刷OLED產(chǎn)品化的核心技術(shù)。國創(chuàng)科針對高沸點Ink材料進行了重點研發(fā)攻關(guān),通過結(jié)構(gòu)、流場的合理設(shè)計,提高腔體內(nèi)流場的均勻性,使載臺與冷凝板溫度均勻可控,多段真空、抽速、保壓時間可調(diào),集成了20余項專利技術(shù),可以適配200℃以上高沸點混合溶劑的高均一性干燥成膜。國創(chuàng)科已完成200*200、G4.5、G5.5、G6等多世代產(chǎn)品的研發(fā)和交付,其中G5.5 VCD設(shè)備已在客戶產(chǎn)線完成近萬片的量產(chǎn)跑機(業(yè)內(nèi)最多高沸點Ink量產(chǎn)化實績)。該高真空VCD設(shè)備,也已經(jīng)向鈣鈦礦、光刻膠等行業(yè)出貨。

03國創(chuàng)科電流體系列噴印裝備國創(chuàng)科電流體系列噴印裝備采用電流體噴印技術(shù),主要由EM、EP、EH、EB產(chǎn)品線構(gòu)成,制程分辨率超過20000PPl,主要為行業(yè)提供高分辨率結(jié)構(gòu)及高粘度材料噴印解決方案。電流體系列可應(yīng)用在分辨率要求更高的Micro OLED CF、MLA等AR/VR像素結(jié)構(gòu)制備,QLED及量子點鈣鈦礦打印,框膠打印,電路修復(fù)等場合。

DIC 2026

由中國光學光電子行業(yè)協(xié)會液晶分會(CODA)主辦的全球顯示技術(shù)年度盛會--DIC 2026系列會展活動將再度登陸上海。其中,DIC FORUM 2026中國(上海)國際顯示產(chǎn)業(yè)高峰論壇將于8月26-27日在上海浦東嘉里大酒店隆重開幕,DIC EXPO 2026國際(上海)顯示技術(shù)及應(yīng)用創(chuàng)新展將于8月26-28日在上海新國際博覽中心舉辦。

“多元賦能 全面升維”,DIC 2026將繼續(xù)推動我國顯示產(chǎn)業(yè)不斷升級發(fā)展,促進我國顯示產(chǎn)業(yè)從規(guī)模領(lǐng)先向價值領(lǐng)先轉(zhuǎn)變,為全球顯示產(chǎn)業(yè)提供技術(shù)升級、綠色轉(zhuǎn)型的中國方案,共同構(gòu)建開放、包容、共贏的全球顯示產(chǎn)業(yè)生態(tài)。

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